Маркин Александр Васильевич

Место работы
ФГБОУ ВПО «Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана»
Должность
студент

Публикации, документы и материалы

Наименование Тип Год
Особенности выбора толщины фоторезиста с целью обеспечения и повышения стабильности процесса литографии при производстве полупроводниковых приборных структур Статья 2017

Редакция проекта с благодарностью принимает сообщения об обнаруженных ошибках, а также любые уточнения, дополнения и предложения.